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上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機
1. 無級調(diào)速控制
2. 下方配有吸塵裝置，可吸走磨削物
3. 安全鎖扣，1/4磨面，保護操作員
適用于光譜研究的試樣磨平。
在金相試樣制備和光譜分析應用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前*的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調(diào)速，*罩殼設計可有效保障磨樣安全，機箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染，該機啟動平穩(wěn)、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率，是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。
型號 | GMP-2-300 |
磨盤直徑 | 300mm |
砂紙直徑 | 300mm |
轉(zhuǎn)速 | 無級調(diào)速100~1400r/min 或四檔速300, 600, 900, 1400 r/min |
轉(zhuǎn)向 | 順時針或逆時針 |
電機功率 | 550W |
顯示及操作 | 數(shù)碼管顯示，薄膜按鍵操作，帶吸塵裝置 |
輸入電源 | 單相220V, 50Hz, 10A |
外形尺寸 | 820×440×940mm |
凈重 | 122kg |
標準配置：
名稱 | 規(guī)格 | 數(shù)量 |
主機 |
| 1臺 |
磨盤 | 300mm | 2個 |
砂紙 | 300mm | 2張 |
內(nèi)六角扳手 | 5mm | 1把 |
說明書 |
| 1份 |
合格證 |
| 1份 |
上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登陸 sitemap.xml
